高周波誘導加熱：ゲッター加熱

高周波誘導加熱を活用したゲッター加熱についての概要

ゲッター加熱またはゲッター・フラッシュはシールされたガラス管の生産において、フィラメントの寿命を保つための酸素の無い真空を得る事は必要不可欠なことです。
そのためには、バルブの中でゲッターと呼ばれる小さな金属のディスクを加熱することにより残存ガスを除きます。

ゲッターは、酸素と窒素に高い親和性のあるバリウムでコーティングされています。
バルブからポンプで空気が抜かれシールされた後、十分い拡散させるためにバリウムを一瞬にして蒸発させるために加熱し、バルブの中の残留ガスを呼び名のとおり”ゲット”します。

ゲッター加熱は、レーザー管、ネオン管、蛍光管、その他の高輝度ランプやブラウン管の寿命を延ばすためにもそれらの生産工程で使われています。

誘導加熱の利用

円形のスチール・ディスクが円形のコイルの理想的な負荷であることから、誘導加熱システムはガラス管を通してゲッターを簡単にすばやく加熱します。
1100℃程の温度が、金属を１秒ほどで蒸発させます。
誘導による加熱は、信頼性、再現性に優れ、効率的な非接触による加熱です。
アメリサーム社(Ameritherm Inc.)のソリッドステートシステムは、温度センシングとコントロール・システムとともに使うことにより、極めて小さな部分加熱を精度良く行うことができます。

ゲッター加熱に使われる高周波電源の出力は、おおよそ3 ～ 10kWの範囲です。

「ゲッター加熱」のビデオライブラリー

ゲッター加熱

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