誘導加熱(IH)装置の設計と開発

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誘導加熱の用途別適用事例:ゲッター加熱

用途別適用事例:ゲッター加熱
ゲッター加熱は、レーザー管、ネオン管、蛍光管、その他の高輝度ランプやブラウン管の寿命を延ばすために、それらの製造工程で使用されています。

ゲッター加熱またはゲッターフラッシュは、密閉されたガラス管の製造中に生じる特有のハードルを克服します。
フィラメントの寿命を延ばすために、酸素の無い真空が必要不可欠となります。
そのためには、バルブの中でゲッターと呼ばれる小さな金属のディスクを加熱することにより残存ガスを除去します。

ゲッターは、酸素と窒素に高い親和性のあるバリウムでコーティングされています。
バルブからポンプで空気が抜かれ密閉された後、十分に拡散するようバリウムを一瞬にして蒸発させるために加熱し、バルブの中の残留ガスを呼び名のとおり”ゲット”します。

高周波誘導加熱(IH)活用による利点

円形のスチールディスクが円形のコイルの理想的な負荷であることから、誘導加熱システムはガラス管を通してゲッターをすばやく簡単に加熱します。
1100°C程の温度で、1秒以内に金属を気化させます。
誘導加熱は、信頼性、再現性に優れ、効率的な非接触による加熱です。
先進のソリッドステート技術による誘導加熱電源を活用した高周波誘導加熱装置は、温度の検知と制御のシステムを組み込むことにより、正確な製造公差の範囲内で、極めて小さな部分を加熱することが可能です。

ゲッター加熱に適した高周波電源の出力レンジは、パーツや要件によりますが、3から10kWです。

誘導加熱のアプリケーションノート
誘導加熱による様々なアプリケーション(適用事例)の資料 icon-files-o をご用意しております。
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高周波誘導加熱のアプリケーション

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